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MP-2C金屬學標本磨碎拋光M


MP-2C金屬學標本磨碎拋光M
MP-2C金相圖像打磨機器

1.應用:
MP-2計算標本磨削拋光機配備了雙光盤
並具有更改速度的功能。
它可以實現整個磨碎,細磨,粗糙的拋光和整理的整個過程
拋光標本準備。
該機器具有易於操作和經濟應用。
它是理想的標本準備工具,用於使用工廠,科學研究機構
和大學實驗室。


2.技術s特性
模型國會議員2c
工作光盤的旋轉速度50-1000 rpm(更改步速)
研磨圓盤直徑200mm
拋光圓盤直徑200mm
磨料紙直徑200mm
電源單相,220V,50Hz
電機動力YSS7124,550W
方面870 x 760 x 560毫米
淨重56公斤


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